① 缘起:为什么还要学 EWMA?
你已学过常规(休哈特)控制图与累积和(CUSUM)图。EWMA 是另一种"带记忆"的控制图,对小幅、持续的偏移尤其敏感,而且对非正态数据更稳健。
常规控制图只看"当前这个点"是否越出 ±3σ 限,对悄悄滑移 0.3σ 的过程要等很久才偶然抓到一个点;CUSUM 把所有偏差严格累加,记忆是" permanent"(调整前永不遗忘)。而 EWMA(Exponentially Weighted Moving Average,指数加权移动平均)取了个折中:它把过去所有数据加权平均,但越久远的数据权重越小(指数递减)——既有记忆,又不会"记仇"一辈子。
标准强调:EWMA 对正态假设不敏感(比单值 X 图稳健),因此特别适合子组大小为 1的场合(单个观测就画图)。本讲解顺序:定义与权重 → 控制限 → 两个计量示例 → 参数设计与 ARL → 实施与特性 → 三个应用(计量/不合格品率/不合格数)。
② EWMA 的定义与权重衰减
公式(1):zᵢ = λ·xᵢ + (1−λ)·zᵢ₋₁,初始值 z₀ = μ₀(过程目标值)。拖动下面的 λ,看"历史数据的权重"如何随距离衰减。
展开后:zᵢ = λ·xᵢ + λ(1−λ)·xᵢ₋₁ + λ(1−λ)²·xᵢ₋₂ + … + (1−λ)ⁱ·z₀
各观测权重 = λ(1−λ)ʲ(j 为距当前的距离),权重之和 → 1(几何级数)
λ = 1 时,zᵢ = xᵢ,EWMA 退化为单值 X 控制图;λ 越小,记忆越长、对小偏移越敏感(标准建议常用 0.05–0.50,最常见 0.25–0.50)。③ 控制限公式(时变 vs 稳定值)
EWMA 的方差随 i 变化,所以控制限也"随时间变宽",最终趋于稳定值。这是 EWMA 与休哈特图最不同的地方。
中心线 CL = μ₀
UCLᵢ = μ₀ + L·σ·√(λ/(2−λ))·√[1 − (1−λ)²ⁱ]
LCLᵢ = μ₀ − L·σ·√(λ/(2−λ))·√[1 − (1−λ)²ⁱ]
当 i 很大时,[1−(1−λ)²ⁱ] → 1,控制限趋于稳定值:μ₀ ± L·σ·√(λ/(2−λ))
系数 L 决定置信水平。休哈特取 3σ(99.73%),对应 L=3;EWMA 常用 L=2.7~3.0(λ 小时 L 取 2.6~2.8 更合适)。下面拖 λ 和 L,看控制限的"初始窄、逐渐变宽、最终稳定"过程。
④ 示例①:建立 EWMA 图(标准 表1)
已知历史数据:μ₀=50,σ=2.0539,取 λ=0.3、L=3。标准用稳定值控制限作图,全部点受控。把下面数据粘贴进文本框(或点"载入示例"),自己算一遍。
⑤ 示例②:过程监控(标准 表2,含 +1σ 偏移)
μ₀=10、σ=1、λ=0.1、L=2.7。前 20 个来自 N(10,1),后 10 个来自 N(11,1)(均值漂移 +1σ)。用时变控制限,看 EWMA 何时"抓到"这次漂移。
⑥ 参数选取 λ / L / n 与平均链长 ARL
选 λ 和 L 本质是"想要多快抓到多大的偏移"。标准用 ARL(平均链长)量化:ARL₀=受控时平均多少个点才误报一次(越大越好),ARL₁=发生某偏移时平均多少个点能发现(越小越好)。
标准 表 3 给出 EWMA 与常规图的 ARL 对比(ARL₀ 都设成 370)。规律很清晰:λ 越小,监测小幅偏移越强(δ=0.5 时 ARL 从 14.9 降到 7.6);大幅偏移时 λ 影响很小。
| 偏移 δ/√n | 常规图 | EWMA λ=1.0 | EWMA λ=0.5 | EWMA λ=0.3 | EWMA λ=0.2 | EWMA λ=0.1 |
|---|
下面拖动"真实偏移 δ",用蒙特卡洛实时模拟 EWMA(λ=0.1,L=2.715) 与休哈特(3σ) 的 ARL,直观看小偏移谁赢:
参数设计步骤(标准 5.3)
标准示例:μ₀=100、σ=0.8、ARL₀=500、要抓 ±1 的偏移(ARL₁=3~4)→ 查表 4 得 L₂=3.05、λ=0.37、δ₁√n=2 → n=(2/1.25)²=2.56→取 3。
⑦ 实施 EWMA 控制图的程序
标准第 6 章:EWMA 的实施与其他控制程序相同,前提是"好的历史数据已表明过程受控"。
⑧ EWMA 对非正态数据不敏感
标准第 7 章:单值控制图和 EWMA 图都可用于子组大小为 1。但单值 X 图对非正态较敏感,设计合理的 EWMA 图对正态假设并不敏感。
原因在公式(3)的展开:EWMA 是所有历史观测的加权平均,根据中心极限定理,加权平均天然更接近正态——所以即使个别 xᵢ 偏离正态,zᵢ 的分布也较稳,控制限不易失准。这也是为什么 EWMA 被推荐用于单个观测的质量特性监控。
⑨ 优点与局限
✅ 优点
a) 使用之前所有观测,权重随久远程度指数递减;可调 λ 影响"记忆长短"。
b) 对非正态分布更稳健(见第 8 节)。
c) 对小偏移敏感,且能较平滑地呈现趋势。
⚠️ 局限
a) 监测大幅、突发偏移不如常规图及时——标准建议EWMA 与常规图联合使用,同时抓小偏移和大偏移。
b) λ 太小时,生产早期对小偏移更敏感,但一旦形成趋势,与其他图一样不会自动"复位"。
⑩ 附录 A:装药量过程(n=2 的计量 EWMA)
向 100ml 药瓶装药,目标 μ₀=100、σ₀=0.1、取 λ=0.52、L₂=3.07、子组 n=2。当 n>1 时,EWMA 作用在子组均值上,σ 用 σ/√n。标准在第 10 个样本发现均值偏移。
⑪ 附录 B:不合格品率 p 的 EWMA 控制图
监控焊接过程不合格品率:p₀=0.01945、子组 n=1600、取 λ=0.54、L₂=2.98、ARL₀=370,要求不合格品率达 0.028 时快速发现。
σ_p = √[p₀(1−p₀)/n] (子组大小 n 时,用 比例的标准差,非单件)
UCL = p₀ + L·√(λ/(2−λ))·σ_p , LCL = p₀ − L·√(λ/(2−λ))·σ_p
注意:标准正文写的 s₀=√(p₀(1−p₀))=0.1381 是单件标准差,但控制限实际按 √(p₀(1−p₀)/n) 算(或等价地用计数 dᵢ=n·pᵢ 构造、参数乘 n)。下面计算器用正确公式实现。
⑫ 附录 C:不合格数 c 的 EWMA 控制图
监控不合格数:c₀=10、取 λ=0.26、L₂=2.90、ARL₀=370,要求平均不合格数达 15 时快速发现。(n=1,单计数)
σ_c = √c₀
UCL = c₀ + L·√(λ/(2−λ))·σ_c , LCL = c₀ − L·√(λ/(2−λ))·σ_c
同样可用于"单位不合格数 u":只需把 c、c₀、cᵢ 换成 u、u₀、uᵢ。还可加单侧 EWMA 监控"质量是否提升"。
⑬ 小结:EWMA 一页速查
| 要点 | 内容 |
|---|---|
| 核心公式 | zᵢ = λxᵢ + (1−λ)zᵢ₋₁,z₀=μ₀ |
| 控制限 | μ₀ ± L·σ·√(λ/(2−λ))·√[1−(1−λ)²ⁱ](时变);稳定值 μ₀ ± L·σ·√(λ/(2−λ)) |
| λ 取舍 | 小→记忆长、抓小偏移强但反应慢;大→反应快、抓大偏移好。常用 0.05–0.50,最常见 0.25–0.50 |
| L 取舍 | 通常 3;λ 小时取 2.6–2.8。ARL₀ 一般设 100–1000 |
| 与休哈特 | 小偏移 EWMA 远快;大偏移休哈特更及时 → 建议联合使用 |
| 非正态 | 对正态不敏感,适合子组 n=1 的单件测量 |
| 属性扩展 | p-EWMA(用 √(p₀(1−p₀)/n))、c-EWMA(用 √c₀);z₀ 取目标值,调整后要重置 |